LOT-Oriel - Ellissometria Spettroscopica

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Ellissometria Spettroscopica

L'ellissometria è un metodo estremamente efficace per la caratterizzazione ottica dei film sottili di varia natura.

Si basa sulla misura della variazione dello stato di polarizzazione di un fascio di luce che viene fatto incidere sul campione. La polarizzazione del fascio di luce riflesso o trasmesso dal campione viene analizzata e tramite la relazione

tan(Ψ) eiΔ = Rp / Rs

dove Rp ed Rs sono i coefficienti complessi di Fresnel del campione per la luce polarizzata p- ed s-, vengono misurati i valori di Psi e di Delta per ogni lunghezza d'onda e per ogni angolo di incidenza della luce.

Mediante processo iterativo a partire da un modello teorico del campione vengono poi estrapolati tutti i dati dipendenti da tali parametri come:

Spessori dei vari strati di film sottile

Costanti ottiche n e k

Rugosità superficiale ed interfacciale

Composizione, cristallinità

Anisotropia ottica

Uniformità lungo l'area del film

Uniformità lungo lo spessore del film

Ed ogni altro fenomeno fisico che induce variazioni nelle proprietà ottiche del materiale. Rispetto ai sistemi di ellissometria a singola lunghezza d'onda, l'ellissometria spettroscopica offre due innegabili vantaggi:

la possibilità di analizzare materiali più complessi, quali leghe o film sottili multistrato

la capacità di selezionare la zona spettrale di trasparenza del materiale per ottenere dati validi su campioni altrimenti non misurabili con la tecnica ellissometrica

L'evoluzione dei sistemi Woollam ha aggiunto inoltre nuove capacità di analisi. Caratteristiche ottiche e comportamenti peculiari di materiali particolari come l'anisotropia mono e biassiale sono ora perfettamente caratterizzabili con i sistemi Woollam.

L'ellissometria è applicata con successo in vari settori di ricerca:

Vetri e substrati per semiconduttori

Per determinare n e k in un'ampia zona spettrale

Film sottili dielettrici

Ossidi nativi o rugosità superficiale

Film metallici
Film multistrato

Risolvibili soltanto con l'ellissometria spettroscopica

Film organici

Langmuir-Blodgett

Film anisotropi

Materiali per fotolitografia

Photoresist

Coating AR organici ed inorganici

Ossidi conduttivi trasparenti

ITO

ZnO

SnO2

Cristalli liquidi
Leghe di semiconduttori

Spessore di film singoli o multilayer e composizione di lega

Detailed Information:


	VASE® (with Video) Powerfull R&D variable angle spectroscopic ellipsometer with wide spectral range (193-2200nm)		M-2000® (with Video) Revolutionary rotating compensator technology. Many spectral ranges available from 193 to 1700nm
	VUV-VASE™ (with Video) Spectroscopic ellipsometer covering the vacuum UV to the NIR. Perfect for lithography applications at 248nm, 193nm, and 157nm		MASE™ (with Video) New multi-angle base for M-2000 ellipsometers. The ellipsometer remains fixed while beam steering optics change the angle of incidence
	IR-VASE® Infrared ellipsometer with spectral coverage from 2 to 35µm		Alpha-SE™ (with Video) Low cost spectroscopic ellipsometer, easy to use

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